Depósito físico por pulsos de alta potencia (HiPIMS)

También conocido por sus siglas en inglés como “High power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)”. Por medio de la combinación de pulsos de alta potencia en durante un periodo de algunos milisegundos se sostiene un plasma que conteiene especies ionizadas y doblemente ionizadas, la combinacion de un campo electríco y uno magnético en la vecindad de una pieza llamada blanco, el blanco puede ser de diversos materiales, por ejemplo  titanio, cromo, ytria, etc. En el prototipo desarrollado se cuenta con la emisión simultanea o alternada de dos blancos. La colición de iones energeticos del plasma con la superficie del blanco generan vapores que pueden transportarse a un substrato, formando en la superficie del substrato el crecimiento de peliculas compactas de nitruros, multicapa y multicomponente.  El nivel de la tecnología desarrollada de acuerodo con el  sistema de clasificación de la NASA, TRL (por sus siglas en inglés – Technological Readiness Level)  corresponde a un nievel TRL 7 es decir un sistema demostrativo pre-comercial funcionando en ambiente operativo.