Déposito físico de vapores (PVD)

También conocido por sus siglas en inglés como “Physical Vapor Deposition (PVD)”. En un ambiente generado por un plama debilmente ionizado, se realiza la combinacion de un campo electríco y uno magnético, la combinación de campos se realiza en la vecindad de una pieza llamada blanco, el blanco puede ser de diversos materiales, por ejemplo  titanio, cromo, ytria, etc. La colición de iones energeticos del plasma con la superficie del blanco generan vapores que pueden transportarse a un substrato, formando en la superficie del substrato el crecimiento de peliculas compactas de nitruros. El nivel de la tecnología desarrollada de acuerodo con el  sistema de clasificación de la NASA, TRL (por sus siglas en inglés – Technological Readiness Level)  corresponde a un nievel TRL 7 es decir un sistema demostrativo pre-comercial funcionando en ambiente operativo.

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